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再次突破技术壁垒!9纳米光刻机弯道超车 助力中国产业升级

2019-5-19 13:59| 发布者: 哥不帅但很坏| 查看: 170| 评论: 0

摘要: 我国上世纪80年代开始对外开放,改革开放使中国的经济不断溶入全球经济的发展行列,但随着我国经济活力的不断释放,再加上对国家经济科技发展的长期适当的战略,我国借助经济发展的助力,各行业的科技能力也不断加速 ...
我国上世纪80年代开始对外开放,改革开放使中国的经济不断溶入全球经济的发展行列,但随着我国经济活力的不断释放,再加上对国家经济科技发展的长期适当的战略,我国借助经济发展的助力,各行业的科技能力也不断加速,这也引起了西方世界尤其是西方强国的注意。


再次突破技术壁垒!9纳米光刻机弯道超车 助力中国产业升级
为了阻止我国获得技术,西方列强更是对中国采取了武器禁运,以防止获得先进的武器技术,在民用科技行业,国外科技企业既想从中国获得大量的利益,又对我国在技术上大增壁垒,但我国庞大的人力资源和科研队伍却起了巨大的作用,不仅在军工行业,而且在民用技术上不断获得巨大突破,最近又传来我国突破了9纳米光刻机技术的消息,这也标志着我国再一次打破了西方高科技壁垒。


再次突破技术壁垒!9纳米光刻机弯道超车 助力中国产业升级
光刻机,有网友可能听到其名字时比较陌生,但其实我们在日常生活中经常会接触到由其所锻造的产品,比如我们所使用的手机和电脑以及其他电子产品的芯片都要经过其制造。主要是使用其在硅片板上刻制电路,随着电子设备发展的小型化和智能化,芯片的电路板越来越小,电路更加密集,这也对光刻机提出了更高的要求。也使光刻机技术的地位作用更加重要。目前,普通光刻机的主要集中在14纳米的水平上。更先进的还有7纳米和9纳米光刻机,光刻机技术主要掌握在日本、德国和荷兰手中,尤其是荷兰更是此行业的霸主,而非常不幸的是,荷兰的光刻机公司由于出于种种原因,其光刻机对我国禁运,而对于我国电子产品产量及种类非常庞大的产业来说,其影响力是巨大的,它也间接制约着我国的产业转型升级,因此在光刻机的研发上,我国也是投入了大量的资金和人员。

再次突破技术壁垒!9纳米光刻机弯道超车 助力中国产业升级
达成这一突破的是我国的武汉光电国家研究中心的甘棕松团队,他们采用二束激光在自研的光刻机上突破了光束衍射极限的限制,刻出了最小9纳米线宽的线段,与西方的光刻技术有所区别,可以说拥有完全的自主产权。相信在不久的将来,这种9纳米光刻机技术,很快会从实验室走向应用,届时,我国的芯片制造将大大减轻对国外的依赖,我们中国人也可以自主设计更先进的芯片,从而在日趋激烈的电子产品竞争中占据主动地位。
光刻机是现代芯片制造的核心装备之一,而日本,德国和荷兰掌握了光刻机的制造技术,但这些制造出来的光刻机非常的昂贵,动辄上亿美元,即便是如此昂贵的装备,他们还是可以卖给其他国家的。

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